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書誌情報(基本)

書名

よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み  図解入門:How‐nual Visual Guide Book  

著者名 佐藤淳一/著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9


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No. 種別 資料番号 所蔵館 請求記号 取扱区分 状態 配架場所 特記 貸出
1 一般書1910746211中央図書館549.8/サ/ 在架 書庫A 
2 一般書1043683836金森図書館549.8/サ/ 在架 一般開架 

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2020
549.8 549.8
半導体

書誌情報(詳細)

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1000002529694
種別 図書
著者名 佐藤淳一/著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9
ページ数 255p
大きさ 21cm
ISBN 4-7980-6245-6
分類記号 549.8
分類記号 549.8
書名 よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み  図解入門:How‐nual Visual Guide Book  
書名ヨミ ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ
副書名 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰
副書名ヨミ シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン
内容紹介 2010年刊『図解入門よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み』の第4版。第9章として「CMOSのプロセスフロー」を新たに収録。半導体プロセスをシリコン・シリコンウェーハから半導体ファブ、前工程・後工程まで全体を俯瞰できる。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書「CVDハンドブック」(分担執筆、朝倉書店)など。(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
件名1 半導体
版表示 第4版
叢書名 図解入門:How‐nual



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